頂立科技臥式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）
概述：化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。
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臥式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）技術(shù)特征
以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整，不作為驗(yàn)收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。
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可根據(jù)客戶需求設(shè)計(jì)尺寸，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；
采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好；
采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；
采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。
臥式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）產(chǎn)品規(guī)格
| 參數(shù)\型號 | HCVD-060609-C | HCVD-080812-C | HCVD-101015-C | HCVD-121225-C | HCVD-151530-C |
| 工作區(qū)尺寸 W×H×L（mm） | 600×600×900 | 800×800×1200 | 1000×1000×1500 | 1200×1200×2500 | 1500×1500×3000 |
| 最高溫度（℃） | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| 溫度均勻性（℃） | ±7.5 | ±7.5 | ±7.5 | ±10 | ±10 |
| 極限真空度（Pa） | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
| 壓升率（Pa/h） | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
臥式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）配置選擇
爐門：鉸鏈回轉(zhuǎn)式/臺(tái)車平移式；手動(dòng)鎖緊/自動(dòng)鎖圈鎖緊
爐殼：全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
爐膽：軟碳?xì)?軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/CFC
加熱器、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細(xì)顆粒石墨
工藝氣路系統(tǒng)：體積/質(zhì)量流量計(jì)；手動(dòng)閥/自動(dòng)閥；進(jìn)口/國產(chǎn)
真空泵和真空計(jì)：進(jìn)口/國產(chǎn)
人機(jī)界面：模擬屏/觸摸屏/工控機(jī)
PLC：歐姆龍/西門子
控溫儀表：日本島電/英國歐陸
熱電偶：C分度號/S分度號/K分度號/N分度號
記錄儀：無紙記錄儀/有紙記錄儀；進(jìn)口/國產(chǎn)
電器元件：正泰/施耐德/西門子
料車：滾道式/叉車式/疊加式超長傳輸料車
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