真空鍍膜系統
概述：普諾克真空系統的結構是影響真空系統密封性和系統漏氣率的關鍵，真空系統的結構合理與否，將直接影響系統的密封性和系統的漏氣率。
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真空鍍膜系統
降低真空系統漏氣率的措施：
1.真空系統的結構
真空系統的結構是影響真空系統密封性和系統漏氣率的關鍵，真空系統的結構合理與否，將直接影響系統的密封性和系統的漏氣率。
（1）盡可能地避免出現小曲率半徑的死角，要光滑過渡查剎于打麈拋光、清洗清掃。
（2）抽空管道、送氣管道等與真空室相連接的管道，采用圓弧過渡，使氣路暢通無阻，但要考慮清洗清掃的方便性。
（3）認真設計真空室內各種連接件的結構，使氣路暢通，避免氣路堵塞。
（4）打磨拋光真空系統內表面，表面越光亮就越不易氣體吸附，越容易獲得真空。
（5）盡可能減小真空室的體積，縮短管路系統。
2.密封形式的選擇
密封形式可根據 所需真空度的高低及實際工作需要選擇密封形式，對于人工晶體生長設備，一般需要的真空度在lO-3Pa以下，因此，無需采用金屬密封。以TDR--70型單晶爐為例，我們選擇磁性流體密封作為旋轉動密封，選擇高精度大伸縮量的焊接波紋管進行移動密封，小直徑軸的旋轉密封選用“O”型密封圈或威爾遜密封，各種靜密封則采用“0”型密封圈密封形式，直徑壓縮比為25％。
真空鍍膜系統
真空系統的產品特性：
1.真空度高、性能穩定、壽命長
2.流量：4-1300m3/hr（單臺泵）
3.真空使用范圍：0.5-500mbar（絕對壓力）
4.無需接入水源
5.結構緊湊，占地面積少
6.操作簡單維護方便，噪音少
7.可實現多臺機組PLC聯控
8.可連接GDMS系統
9.符合歐洲CE EN737-3標準
真空系統性能特點：
該裝置自第一次啟動后，全部運行過程可以實現全自動控制。其工作中，真空系統內各處的真空度始終在其允許范圍內上下波動，其波動范圍可根據用戶要求進行調整。第一臺啟動達不到真空時第二臺啟動至達到設定的真空值當達到后第一臺停再第二臺停循環工作，該裝置在無人操作情況下對系統進行自動控制，在停電時可自動封閉真空系統。同時控制箱可以保護真空泵馬達過載及短路。
真空鍍膜系統
普諾克真空系統產品圖
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